IT之家11月26日报道，上海片上微器件科技有限公司（AMIES）昨日宣布，其首款自主研发的350nm步进光刻机（AST6200）已正式完成工厂调试验收，正在发往客户现场。芯上微器件表示，这标志着我国高端半导体光刻设备领域的又一重大突破。这不仅是一次产品交付，更是国产半导体装备迈向自主化、高端化的重要里程碑。据官方介绍，AST6200光刻设备是Micro-On-Chip基于多年对半导体光学系统设计、精密运动控制和工艺的理解而打造的一款高性能、高可靠、完全自主可控的步进式光刻设备。专为先进制造场景而设计电源、射频、光电和 micro-LED 等操作系统。 ▲首款350nm微片上步进光刻机（AST6200）的主要性能亮点是高分辨率图像，满足先进工艺的需求。配备大数值孔径投影物镜，结合多种照明模式和可变光瞳技术，实现350 nm的高分辨率，满足当前常规化合物半导体芯片的光刻工艺要求。高精度叠加配备高精度对位系统，实现正面80nm、背面500nm的叠加，保证多层图形精准叠加，提升设备性能。高性能的设计显着降低了拥有成本（COO）： 1.高强度I线光源（TI内注：波长365nm，属于深紫外UVA级别） 2.高速直线电机板驱动系统支持高速d 各种2/3/4/6/8英寸规格板的切换 3.高速精密运动台系统，加速度高达1.5g，显着提高产量 工艺适应性强，兼容多材料、多形状基板： 1. Si、SiC、InP、GaAs、蓝宝石等材料。 2.兼容平边、双平边、凹口等多种类型的基材。 3.创新的光线调平和聚焦系统，采用多点、广角入射设计，可以精确测量透明、半透明、不透明和高间距基材。 4.支持alin模块后对准，满足晶圆键合等复杂工艺的后对准要求。软件100%独立可控，打造全栈家居生态：搭载AST6200片上微装自主研发的全栈软件控制系统，实现从底层控制器到高层流程的完全自主管理，并具有较强的流程扩展性和远程运维功能。
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